灰调掩模及其制造方法

摘要

本发明提供一种可容易地获得透射率控制膜的膜厚均匀性高的灰调掩模的制造方法。例如，在透明衬底11上依次形成透射率控制膜12(CrO等)、透射率降低膜13(Cr等)和抗蚀剂膜14，除去应形成透光部的部分(区域C)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13和透射率控制膜12而形成透光部，接着，除去应形成灰调部的部分(区域A)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13而形成灰调部，来制造灰调掩模。

主权项

一种LCD用灰调掩模，该LCD用灰调掩模具有遮光部、透光部、透射一部分曝光光的灰调部，降低透射所述灰调部的曝光光的量，并降低对该区域的照射量，来选择性地改变光抗蚀剂的膜厚，其特征在于，构成所述遮光部的膜至少由主要从透明衬底一侧控制灰调部中的透射率的透射率控制膜和降低遮光部中的透射率的透射率降低膜构成，所述透射率控制膜的透射率为20％～50％，由MoSi、Si、W或Al构成，所述透射率降低膜由铬或铬化合物构成，所述灰调部是把构成所述遮光部的膜沿其厚度方向除去一部分而形成的。