发明名称 |
p沟道横向双扩散金属氧化物半导体器件 |
摘要 |
本发明涉及SOI基上LDMOS器件。本发明针对现有技术的器件未成熟击穿的问题,以及漏极扩展区掺杂浓度与器件耐压的矛盾,公开了一种绝缘衬底上的硅基p沟道横向双扩散金属氧化物半导体器件。本发明的技术方案是,p沟道横向双扩散金属氧化物半导体器件,包括沿Y方向自下而上的衬底、埋氧层、n型掺杂层;所述n型掺杂层X方向一端形成源极n阱,另一端形成漏极p阱,源极n阱和漏极p阱之间为漏极扩展区;所述漏极扩展区由沿Z方向交错并排的n型杂质条和p型杂质条构成,所述n型杂质条和p型杂质条X方向的两端分别与源极n阱和漏极p阱相接。本发明提高了器件耐压的同时,降低了器件导通电阻,非常适合用于制造PDP寻址集成电路。 |
申请公布号 |
CN101777584B |
申请公布日期 |
2011.12.07 |
申请号 |
CN201010300959.9 |
申请日期 |
2010.01.29 |
申请人 |
四川长虹电器股份有限公司 |
发明人 |
廖红;罗波 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/36(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
成都虹桥专利事务所 51124 |
代理人 |
李顺德 |
主权项 |
p沟道横向双扩散金属氧化物半导体器件,包括自下而上的衬底、埋氧层、n型掺杂层;所述n型掺杂层一端形成源极n阱,另一端形成漏极p阱,源极n阱和漏极p阱之间为漏极扩展区;其特征在于,所述漏极扩展区由交错并排的n型杂质条和p型杂质条构成,所述n型杂质条和p型杂质条的两端分别与源极n阱和漏极p阱相接,所述p型杂质条掺杂浓度等于或略大于n型杂质条掺杂浓度。 |
地址 |
621000 四川省绵阳市高新区绵兴东路35号 |