发明名称 图像感测装置及其形成方法
摘要 本发明提供一种图像感测装置及其形成方法。该方法包含:提供一透镜;形成一第一牺牲单元于透镜之上;形成一电磁干扰层于透镜及第一牺牲单元之上;移除第一牺牲单元及部分形成于第一牺牲单元上的电磁干扰层,以形成一具有一开口的电磁干扰图案,开口露出该透镜的一选择部分;形成一第二牺牲单元于开口之内以覆盖透镜的选择部分的一区域,且仍露出透镜的选择部分的一周围区域;形成一遮光层于该电磁干扰图案、该第二牺牲单元、该透镜的选择部分的该周围区域之上;移除该第二牺牲单元及该第二牺牲单元之上的该遮光层,以露出该透镜的选择部分的该区域作为一透光区。本发明不会发生传统电磁干扰图案所产生的问题于图像感测装置的透光区。
申请公布号 CN102270647A 申请公布日期 2011.12.07
申请号 CN201010504411.6 申请日期 2010.10.11
申请人 采钰科技股份有限公司;美商豪威科技股份有限公司 发明人 刘明凯;黄自维;张瑞鸿;黄家辉;陈腾盛
分类号 H01L27/146(2006.01)I 主分类号 H01L27/146(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 姜燕;陈晨
主权项 一种形成图像感测装置的方法,包含:提供一光感测元件,其中该光感测元件具有一透镜位于该光感测元件之上;形成一第一牺牲单元于该透镜之上;形成一电磁干扰层于该透镜及该第一牺牲单元之上;移除该第一牺牲单元及部分形成于该第一牺牲单元上的该电磁干扰层,以形成一具有一开口的电磁干扰图案,其中该开口露出该透镜的一选择部分;形成一第二牺牲单元于该开口之内以覆盖该透镜的选择部分的一中央区域,且仍露出该透镜的选择部分的一周围区域;形成一遮光层于该电磁干扰图案、该第二牺牲单元、以及该透镜的选择部分的该周围区域之上;以及移除该第二牺牲单元及该第二牺牲单元之上的该遮光层,以露出该透镜的选择部分的该中央区域作为一透光区。
地址 中国台湾新竹市