| 发明名称 | 使用双重构图的光致抗蚀剂成像方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了形成双重光致抗蚀剂图案的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102272675A | 申请公布日期 | 2011.12.07 |
| 申请号 | CN200980153706.9 | 申请日期 | 2009.03.30 |
| 申请人 | AZ电子材料美国公司 | 发明人 | 曹毅;M·希亚加拉简;洪圣恩;李东官;李猛;D·米柯拉特 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 宓霞 |
| 主权项 | 在器件上形成双重光致抗蚀剂图案的方法，包括：a)在基材上由第一光致抗蚀剂组合物形成第一光致抗蚀剂的层；b)将所述第一光致抗蚀剂成像式曝光；c)将所述第一光致抗蚀剂显影以形成第一光致抗蚀剂图案；d)用硬化性组合物处理所述第一光致抗蚀剂图案，所述硬化性组合物包含聚合物、硬化性化合物、任选的表面活性剂、任选的热酸产生剂和选自水、有机溶剂或它们的混合物的溶剂，从而形成经硬化的第一光致抗蚀剂图案；e)在所述基材的包括所述经硬化的第一光致抗蚀剂图案的区域上由第二光致抗蚀剂组合物形成第二光致抗蚀剂层，f)将所述第二光致抗蚀剂成像式曝光；和g)将所述成像式曝光的第二光致抗蚀剂显影以在所述第一光致抗蚀剂图案之间形成第二光致抗蚀剂图案，从而提供双重光致抗蚀剂图案。 | ||
| 地址 | 美国新泽西 | ||