发明名称 封装之系统与方法
摘要
申请公布号 TWI353339 申请公布日期 2011.12.01
申请号 TW098114440 申请日期 2009.04.30
申请人 煙草動力學公司 英國 发明人 莱西乔瑟夫戴曼高登;雷诺特麦克;乔西菲克伦;波比詹姆士F;坎本罗柏特斯P 凡
分类号 B81C1/00;H01L21/56 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用以封装一装置的方法,包含下列步骤:将一或多个牺牲层沉积在一基板上,该一或多个牺牲层形成一个体,其实质上相当于欲形成的一第一孔洞的一形状,该一或多个牺牲层额外具有一或多个自该个体延伸的释放片;在该一或多个牺牲层上形成一装置;将一第一封装层沉积在该一或多个牺牲层上,该第一封装层与该基板接触;蚀刻该第一封装层,以曝露该一或多个释放片,以形成一第一封装侧壁,其自该第一封装层的一顶部延伸至该基板,该一或多个释放片延伸超出该第一封装侧壁;移除该一或多个牺牲层,以在该第一封装层和该基板之间形成一或多个开口,及在该基板、该第一封装层和该第一封装侧壁之间形成该第一孔洞;及将一第二封装层沉积在该第一封装层上,以密封该开口,其中该一或多个牺牲层包含一第一牺牲层和一第二牺牲层,该方法更包括下列步骤:蚀刻该第一牺牲层,以曝露该基板的一电极;将一导电层沉积在该第一牺牲层和该电极之上;将该第二牺牲层沉积在该导电层和该第一牺牲层之上;及蚀刻该第二牺牲层。
地址 英国