| 发明名称 |
发光二极体内二维光子晶体的制作方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI353675 |
申请公布日期 |
2011.12.01 |
| 申请号 |
TW096115704 |
申请日期 |
2007.05.03 |
| 申请人 |
謝美莉 新北市淡水區崁頂三路119號8樓;林仲相 臺北市大同區甘谷街35號10樓;楊謝樂 新北市新店區溪園路427號12樓 |
发明人 |
谢美莉;林仲相;杨谢乐 |
| 分类号 |
H01L33/00 |
主分类号 |
H01L33/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种发光二极体内二维光子晶体的制作方法，包括：提供一发光二极体；形成一感光材料层于该发光二极体上，其中该感光材料层为正型光阻材料与负型光阻材料其中之一；提供至少三道光线于该感光材料层上，并使该些光线在该感光材料层上形成一二维干涉图案，以藉由该二维干涉图案对该感光材料层进行曝光，其中该些光线为雷射光；若该感光材料层为正型光阻材料，则移除被曝光部份的该感光材料层，若该感光材料层为负型光阻材料，则移除未曝光部份的该感光材料层，以在该感光材料层上形成一罩幕图案；以及转移该感光材料层上的该罩幕图案至该发光二极体上，以在该发光二极体上形成该二维光子晶体的一微结构。 |
| 地址 |
新北市新店区溪园路427号12楼 |
