Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren

摘要

Die Erfindung betrifft ein optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein mikrolithographisches Belichtungsverfahren. Ein optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage umfasst in einer Ausführungsform wenigstens eine Spiegelanordnung (200, 720, 730, 920), welche eine Mehrzahl von Spiegelelementen (200a, 200b, 200c, ..., 721, 722, 723, ..., 731, 732, 733, ...) aufweist, die zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung (200, 720, 730, 920) reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind, und wenigstens einen Manipulator (300, 720, 910), welcher in Lichtausbreitungsrichtung nach dieser Spiegelanordnung (200, 720, 730, 920) angeordnet ist und eine rasterförmige Anordnung von Manipulatorelementen (301, 302, ..., 600, 721, 722, 723, ...) derart aufweist, dass im Betrieb des optischen Systems auf den Manipulator (300, 600, 720, 910) auftreffendes Licht in Abhängigkeit vom Ort des Auftreffens in seinem Polarisationszustand und/oder in seiner Intensität unterschiedlich beeinflusst wird.