| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur selektiven Beschichtung strukturierter/mikrostrukturierter leitfähiger Strukturen mittels Elektrospray. Das Substrat, auf dem abgeschieden wird, weist leitfähige, auf Potenzial gebrachte Strukturen auf, die während der Abscheidung anziehend auf die durch Elektrospray zerstäubte Flüssigkeit wirken. Hierdurch wird das aufgeladene Material aus der zerstäubten Flüssigkeit zu den leitfähigen Strukturen gelenkt eschieden. Es werden nur diese Strukturen bzw. oberhalb dieser Strukturen beschichtet, während daneben befindliche nicht-leitfähige Bereiche oder daneben befindliche abstoßend gepolte Bereiche nicht beschichtet werden. Eine Abdeckung dieser nicht-leitfähigen oder abstoßend gepolten Bereiche durch eine Maske ist daher nicht erforderlich. Trotz strukturierter Beschichtung über größere Flächen sind also keine zeitaufwändige Maskentechnik oder Lithographieschritte nötig. Benachbarte Strukturen ermöglichen mit Hilfe eines an Ihnen anliegenden Potenzials eine dreidimensionale Gestaltung des abgeschiedenen Materials. Diese benachbarten Strukturen können aus einem leitfähigen Material bestehen und können unmittelbar auf dem Substrat, auf dem abgeschieden wird, angebracht sein, oder aber oberhalb des Substrats in Form einer Maske. Damit können bei der Beschichtung unerwünschte Überhöhungen am Rand vermieden werden und es können einzelne oder viele dreidimensionale Strukturen wie zum Beispiel Halbkugeln, Stufenpyramiden, photonische Kristalle oder Kegel, Halbsäulen, Dreieckssäulen etc. gleichzeitig auf größeren Flächen abgeschieden werden.</p> |
