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发明名称 METHOD OF FABRICATING HIGH INTEGRATED SEMICONDUCTOR APPARATUS AND SEMICONDUCTOR APPARATUS FABRICATED THEREBY
摘要
申请公布号 KR101087877(B1) 申请公布日期 2011.11.30
申请号 KR20080132463 申请日期 2008.12.23
申请人 发明人
分类号 H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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