双扫描式硅片调焦调平测量装置及系统

摘要

本发明提供一种双扫描式硅片调焦调平测量装置及系统，应用于投影光刻机的调平调焦系统中，所述双扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面，形成测量光斑或者光斑阵列，所述探测单元包括第一、第二探测子单元，以及电信号处理单元，所述成像单元出射的光束分别经由第一和第二探测子单元进入电信号处理单元进行相敏解调。本发明的双扫描式硅片调焦调平测量装置具有较大的有效线性化区域，其光学设计难度小，结构相对紧凑。

主权项

一种双扫描式硅片调焦调平测量装置，应用于投影光刻机的调焦调平系统中，所述双扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面，形成测量光斑或者光斑阵列，其特征在于：所述探测单元包括第一和第二探测子单元，以及电信号处理单元；所述成像单元出射的光束分别经由第一和第二探测子单元进入电信号处理单元进行相敏解调；所述第一和第二探测子单元对应于所述狭缝或者狭缝阵列按光路传播的顺序依次设有：第一和第二扫描反射镜或者反射镜阵列、第一和第二探测狭缝或者探测狭缝阵列以及第一和第二能量探测器或者能量探测器阵列；所述成像单元出射的光束经过一分光镜反射后入射到所述第一扫描反射镜或者反射镜阵列上，经过所述分光镜折射后则入射到所述第二扫描反射镜或者反射镜阵列上；经所述第一扫描反射镜或者反射镜阵列扫描后的光依次经过所述第一探测狭缝或者探测狭缝阵列和所述第一能量探测器或者能量探测器阵列，进入电信号处理单元；经所述第二扫描反射镜或者反射镜阵列扫描后的光依次经过所述第二探测狭缝或者探测狭缝阵列和所述第二能量探测器或者能量探测器阵列，进入电信号处理单元；其中，所述电信号处理单元产生一方波信号，所述方波信号用于触发第一扫描反射镜进行扫描，同时该方波信号经180度的相位延迟之后用于触发第二扫描反射镜进行扫描，从而使得所述第一扫描反射镜或者反射镜阵列与第二扫描反射镜或者反射镜阵列的扫描角的相位始终相差180度，并且，经由第一和第二探测子单元进入电信号处理单元并经过相敏解调之后的电压信号也始终反向。