无机薄膜及其制备方法

摘要

无机薄膜及其制备方法，它涉及薄膜及其制备方法。它解决了现有无机薄膜的制备工艺复杂、设备要求高、成膜条件苛刻、成本高、产品易开裂、易脱落的问题。无机薄膜由有机化合物单体、水、催化剂、溶剂A、溶剂B和有机硅高分子制成。制备方法：制备有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液，采用喷涂、浸涂或刷涂的方式将该溶液涂于物体表面，经热处理即得到无机薄膜。本发明得到的薄膜制备方法简单易行、成膜条件容易、对设备要求简单、成本低廉，可广泛的应用于金属表面的抗氧化薄膜，负载催化剂的多孔膜，具有发光特性的发光薄膜，抗磨擦膜、多孔过滤膜、传感器结构膜的使用。

主权项

无机薄膜，其特征在于无机薄膜由1摩尔有机化合物单体、1～6摩尔水、0.01～0.1摩尔催化剂、3～10摩尔溶剂A、为有机化合物单体质量50％～300％的溶剂B和为有机化合物单体质量5％～200％的有机硅高分子制成；其中溶剂A为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、丙酮中的一种或几种，溶剂B为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮中的一种或几种；有机化合物单体为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、甲基三甲氧基硅烷、甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、甲基三乙氧基硅烷、钛酸四丁酯、钛酸四异丙酯、异丙醇铝、乙基己酸亚锡、二丁基氧化锡、六正丁基二锡、三丁基氢化锡中的一种或几种；有机硅高分子为甲基烷氧基硅油、羟基硅油、甲基硅树脂、苯基硅树脂或甲基‑苯基硅树脂；催化剂为甲酸、乙酸、丙酸、硫酸、硝酸、盐酸或甲磺酸。