发明名称 一种基于单元分解光流场的喷墨印花纹理图像配准方法
摘要 一种基于单元分解光流场的喷墨印花纹理图像配准方法,包括以下步骤:①输入参考图像和变形图像,设置迭代实施参数;②对配准位移向量的系数矩阵进行不完全Cholesky分解;③置基函数为线性基函数,根据迭代误差值结果,采用预优共轭梯度算法求解单元分解系数列向量;④计算全局误差估测值,进行尺度空间调整,得到粗尺度空间;⑤置基函数为二阶基函数,在粗尺度空间上,根据局部误差估测结果,求解单元分解系数列向量,得到细尺度空间;⑥在细尺度空间上,将单元分解系数列向量堆叠展开,得到配准位移向量,完成配准。本发明能有效提高特征纹理曲线配准表征能力、提高在噪声环境下的配准精度和速度,适用于喷墨印花纹理图像的配准处理。
申请公布号 CN102262781A 申请公布日期 2011.11.30
申请号 CN201110121029.1 申请日期 2011.05.11
申请人 浙江工业大学 发明人 冯志林;周佳男;任伟;刘小明;叶言明;陈晋音
分类号 G06T7/00(2006.01)I 主分类号 G06T7/00(2006.01)I
代理机构 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人 王兵;王利强
主权项 一种基于单元分解光流场的喷墨印花纹理图像配准方法,其特征在于:所述图像配准方法包括以下步骤:步骤①:首先输入参考图像R和变形图像T,置迭代序标k=0,迭代误差阀值ηε,单元分解系数列向量Mk=0,初始尺度参数h,全局表征误差阀值ητ和局部表征误差阀值ηρ,位移向量Uk=0;步骤②:计算Uk的系数矩阵COEF,并对系数矩阵COEF进行不完全Cholesky分解,得到预优矩阵;步骤③:置k=k+1,置基函数为线性基函数ψ=(1 x y),其中,x和y是二维坐标系,采用预优共轭梯度算法对k次迭代时的单元分解系数列向量Mk=(GMk‑1+K)(COFF)‑1进行迭代求解,并计算迭代误差值err_P,其中,G是2r×2r对称正定矩阵,K是长度为2r的列向量,r是基函数的项数,Mk‑1是k‑1次迭代时的单元分解系数列向量。如果迭代误差值err_P大于ηε,则转至步骤③;否则转至步骤④;步骤④:计算全局误差估测值err_G,如果该值大于ητ时,则需进一步进行尺度空间调整,置尺度参数h=h/2,调整ηε取值,并转至步骤③;否则得到粗尺度空间hcoarse,转至步骤⑤进行局部自适应调整;步骤⑤:置基函数为二阶基函数ψ=(1 x y x2 xy y2),其中,x和y是二维坐标系,并在粗尺度空间hcoarse上调用预优共轭梯度算法对Mk进行迭代求解,得到局部自适应调整的Mk,并计算局部误差估测值err_L;如果局部误差估测值err_L大于ηρ时,则转至步骤④调整尺度空间因子,否则输出最终的细尺度空间hfine,并转至步骤⑥;步骤⑥:输出系数向量Mk,并将Mk堆叠展开,得到位移向量Uk,完成配准。
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