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经营范围
发明名称
PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING APPARATUS AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM
摘要
申请公布号
KR101088254(B1)
申请公布日期
2011.11.30
申请号
KR20090016849
申请日期
2009.02.27
申请人
发明人
分类号
H01L21/3065;H01L21/00
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
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