发明名称 |
LED衬底及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种LED衬底及其制备方法,涉及半导体工艺领域,用以简化图形化衬底的制备过程。本发明提供的LED衬底的制备方法,包括:在基体上形成掩膜层,该掩膜层为纤锌矿结构的薄膜;利用湿法刻蚀对所述掩膜层及所述基体进行刻蚀,直至所述掩膜层完全腐蚀掉,所述LED衬底表面形成不规则结构。本发明的方案适用于GaN基LED器件的制作过程。 |
申请公布号 |
CN102263175A |
申请公布日期 |
2011.11.30 |
申请号 |
CN201010191472.1 |
申请日期 |
2010.05.26 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
高福宝 |
分类号 |
H01L33/20(2010.01)I;H01L33/22(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/20(2010.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种LED衬底的制备方法,其特征在于,包括:在基体上形成掩膜层,该掩膜层为纤锌矿结构的薄膜;利用湿法刻蚀对所述掩膜层及所述基体进行刻蚀,直至所述掩膜层完全腐蚀掉,所述LED衬底表面形成不规则结构。 |
地址 |
100026 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼 |