| 发明名称 | 制造涂覆构件的方法 | ||
| 摘要 | 利用以下方式进行制造涂覆构件(20)的方法。首先为类金刚石碳膜沉积工艺，其中通过在储存有基材(4)的处理室(3)中对所述基材(4)施加电压产生等离子体、同时抽空所述处理室(3)并且将包含至少碳化合物的原料气引入所述处理室(3)中，在基材(4)的表面上形成类金刚石碳膜(21)。之后为氢化工艺，其中在持续抽空的同时通过停止施加电压并且引入氢气替代所述原料气，利用氢气氢化所沉积的类金刚石碳膜(21)。 | ||
| 申请公布号 | CN102260859A | 申请公布日期 | 2011.11.30 |
| 申请号 | CN201110151656.X | 申请日期 | 2011.05.30 |
| 申请人 | 株式会社捷太格特 | 发明人 | 铃木雅裕;齐藤利幸;山川和芳 |
| 分类号 | C23C16/27(2006.01)I;C23C16/515(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/27(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 蔡胜有;王春伟 |
| 主权项 | 一种制造其中基材表面至少部分涂覆有类金刚石碳膜(21)的涂覆构件(20)的方法，所述方法的特征在于包括：类金刚石碳膜沉积工艺，其中通过在储存基材(4)的处理室(3)中对所述基材(4)施加电压产生等离子体、同时抽空所述处理室(3)并且将包含至少碳化合物的原料气引入所述处理室(3)中，在基材(4)的表面上形成类金刚石碳膜(21)；和氢化工艺，其中在持续所述抽空的同时，通过停止施加电压并且引入氢气替代所述原料气，利用氢气氢化所沉积的类金刚石碳膜(21)。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||