发明名称 钌化合物、其制造方法、使用其制造含钌薄膜的方法、以及含钌薄膜
摘要 本发明提供一种(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌,即使该化合物含有类似化合物时也可由其制造含钌薄膜;制造该含钌化合物的方法;使用所述化合物制造含钌薄膜的方法;以及含钌薄膜。从含有所述类似化合物的(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌分离出该类似化合物,由此得到所述(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌,其中该类似化合物的含量为5重量%以下。该含钌化合物用作制备薄膜的原料。
申请公布号 CN102264754A 申请公布日期 2011.11.30
申请号 CN200980152740.4 申请日期 2009.12.21
申请人 东曹株式会社 发明人 古川泰志;大岛宪昭;河野和久;千叶洋一
分类号 C07F17/02(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I 主分类号 C07F17/02(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 孔宪静
主权项 一种(2,4 二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌,其含有5重量%或更少量的一种或多种(2,4 二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌类似结构化合物。
地址 日本山口县