| 摘要 |
1. Способ обработки поверхности, по меньшей мере, одного конструктивного элемента посредством элементарных источников плазмы путем электронного циклотронного резонанса, отличающийся тем, что придают конструктивному элементу или конструктивным элементам (1), по меньшей мере, одно вращательное движение относительно, по меньшей мере, одного ряда неподвижно расположенных в линию элементарных источников (2), причем ряд или ряды расположенных в линию элементарных источников (2) расположены параллельно оси или осям вращения конструктивного элемента/элементов. ! 2. Устройство обработки поверхности, по меньшей мере, одного конструктивного элемента посредством элементарных источников плазмы путем электронного циклотронного резонанса, отличающееся тем, что содержит, по меньшей мере, один ряд неподвижно расположенных в линию элементарных источников (2), установленных напротив конструктивного элемента или конструктивных элементов (1), прикрепленных к средствам для придания, по меньшей мере, одного вращательного движения, причем ряд или ряды расположенных в линию элементарных источников (2) размещен/размещены параллельно оси или осям вращения конструктивного элемента/элементов). ! 3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что вращательное движение представляет собой простое вращение. ! 4. Устройство по п.2, отличающееся тем, что вращательное движение представляет собой простое или двойное планетарное движение. ! 5. Устройство по любому из пп.2-4, отличающееся тем, что элементарные источники (2) состоят из коаксиального волновода и насадки, содержащей магнит, который предназначен для обеспечения электронного циклотронного р� |
