Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung von pyramidalen Oberflächenstrukturen auf einem Substrat

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung von pyramidalen Oberflächenstrukturen auf einem Substrat. Es enthält die Verfahrensschritte Beaufschlagen der Substratoberfläche mit insbesondere Laserlicht, Erfassen eines durch die Substratoberfläche erzeugten Reflexionsmusters des Lichtstrahles, Auswertung des Reflexionsmusters mit einer Intensitätsbestimmung mindestens eines durch Seitenflanken der pyramidalen Oberflächenstrukturen erzeugten gerichteten pyramidalen Reflexionsmaximums, eines durch Kanten der pyramidalen Oberflächenstrukturen erzeugten diffusen Reflexionsbandes und eines durch ebene Fehlstellen erzeugten Fehlstellenmaximums.