发明名称 | 用于化学气相沉积工艺的机台 | ||
摘要 | 一种用于化学气相沉积工艺的机台,其包含边框、导块、第一固定件和第二固定件。导块突出于边框的一边上,且向边框的中心方向延伸。第一固定件朝向边框的一侧开设凹口,第一固定件由陶瓷构成。第二固定件朝向第一固定件的一侧以可拆卸的方式嵌合于凹口,朝向导块的一侧包含沟槽,导块以可拆卸的方式嵌合于沟槽,第二固定件由铝合金并镀上陶瓷阳极膜构成。本发明提供的用于化学气相沉积工艺的机台,使用不易崩裂且可于化学气相沉积工艺机台上替换固定沟槽的陶瓷。 | ||
申请公布号 | CN101696493B | 申请公布日期 | 2011.11.23 |
申请号 | CN200910211405.9 | 申请日期 | 2009.11.06 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 范纲维;吕家榛;赖立书;林世明 |
分类号 | C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 杨俊波 |
主权项 | 一种用于化学气相沉积工艺的机台,其特征在于,包含:一边框;一第一固定件,朝向该边框的一侧开设一凹口,该第一固定件由一第一材质构成,该第一材质为陶瓷;一第二固定件,其以朝向该第一固定件的一侧嵌合于该凹口,而另一侧包含一沟槽,该第二固定件由一第二材质构成,该第二材质为锻造铝合金,并镀上一结晶相α‑Al2O3的陶瓷阳极膜;以及一导块,突出于该边框的一边上,并向该边框的中心方向延伸,且该导块嵌合于该沟槽内。 | ||
地址 | 中国台湾新竹市 |