发明名称 纳米级二维多孔金属膜的制备方法
摘要 本发明公开了一种纳米级二维多孔金属膜的制备方法。该方法为:首先以聚电解质在表面呈亲水性的基片上组装形成至少最外层具有正电荷的聚电解质膜层;其后以非交联高聚物的胶体粒子在该聚电解质膜层上形成单层球形粒子模板;而后在该球形粒子模板中自组装催化纳米粒子,并采用无电沉积方式在催化纳米粒子上形成金属膜;最后将球形粒子模板去除,制得目标产物。本发明具有操作简单、成本低廉,可控性强等特点,适于在气体传感、表面等离子体生物传感器、表面增强光谱等领域广泛应用。
申请公布号 CN102247769A 申请公布日期 2011.11.23
申请号 CN201110170789.1 申请日期 2011.06.23
申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 吕志成;周明
分类号 B01D71/02(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I 主分类号 B01D71/02(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种纳米级二维多孔金属膜的制备方法,其特征在于,该方法为:首先以聚电解质在表面呈亲水性的基片上组装形成至少最外层具有正电荷的聚电解质膜层;其后以非交联高聚物的胶体粒子在该聚电解质膜层上形成单层球形粒子模板;而后在该球形粒子模板中自组装催化纳米粒子,并采用无电沉积方式在催化纳米粒子上形成金属膜;最后将球形粒子模板去除,制得目标产物。
地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号