发明名称 磁阻元件和磁存储器
摘要 一种磁阻元件(10)包括:底层(12),具有取向在(001)面的立方或四方晶体结构;第一磁性层(13),设于底层(12)上,具有垂直的磁各向异性,并且具有取向在(001)面的fct结构;非磁性层(14),设于第一磁性层(13)上;以及第二磁性层(15),设于该非磁性层(14)上,并且具有垂直的磁各向异性。底层(12)的面内晶格常数a1和第一磁性层(13)的面内晶格常数a2满足下式,其中b是第一磁性层(13)的Burgers矢量的幅度,ν是第一磁性层(13)的弹性模量,hc是第一磁性层(13)的厚度:<img file="d2009101276732a00011.GIF" wi="1184" he="86" />
申请公布号 CN101546807B 申请公布日期 2011.11.23
申请号 CN200910127673.2 申请日期 2009.03.23
申请人 株式会社东芝 发明人 北川英二;吉川将寿;永瀬俊彦;大坊忠臣;长岭真;西山胜哉;岸达也;与田博明
分类号 H01L43/08(2006.01)I;H01L43/10(2006.01)I;G11C11/15(2006.01)I 主分类号 H01L43/08(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 屠长存
主权项 一种磁阻元件,其特征在于,包括:第一底层,具有取向在(001)面的立方或四方晶体结构;第一磁性层,设于所述第一底层上,具有垂直于膜表面的磁各向异性,并且具有取向在(001)面的面心四方(fct)结构;第一非磁性层,设于所述第一磁性层上;以及第二磁性层,设于所述第一非磁性层上,并且具有垂直于膜表面的磁各向异性,所述第一底层的面内晶格常数a1和所述第一磁性层的面内晶格常数a2满足下式,其中b是所述第一磁性层的Burgers矢量的幅度,v是所述第一磁性层的弹性模量,hc是所述第一磁性层的厚度, <mrow> <mo>|</mo> <msqrt> <mn>2</mn> </msqrt> <mo>&times;</mo> <mi>a</mi> <mn>1</mn> <mo>/</mo> <mn>2</mn> <mo>-</mo> <mi>a</mi> <mn>2</mn> <mo>|</mo> <mo>/</mo> <mi>a</mi> <mn>2</mn> <mo>&lt;</mo> <mi>b</mi> <mo>&times;</mo> <mo>{</mo> <mi>ln</mi> <mrow> <mo>(</mo> <mi>hc</mi> <mo>/</mo> <mi>b</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mo>+</mo> <mn>1</mn> <mo>}</mo> <mo>/</mo> <mo>{</mo> <mn>2</mn> <mi>&pi;</mi> <mo>&times;</mo> <mi>hc</mi> <mo>&times;</mo> <mrow> <mo>(</mo> <mn>1</mn> <mo>+</mo> <mi>v</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mo>}</mo> <mo>.</mo> </mrow>
地址 日本东京都