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发明名称 COMPOSITIONS FOR REMOVAL OF METAL HARD MASK ETCHING RESIDUES FROM A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP2219882(A4) 申请公布日期 2011.11.23
申请号 EP20080850920 申请日期 2008.09.29
申请人 EKC TECHNOLOGY, INC. 发明人 CUI, HUA
分类号 H01L21/02;H01L21/768 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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