发明名称 |
耗尽型顶栅结型场效应晶体管(DTGJFET) |
摘要 |
本发明提供一种耗尽型顶栅结型场效应晶体管(DTGJFET)。结型场效应晶体管半导体器件和方法可包括设置在源极区域和漏极区域之间的顶栅,其可从源极区域向漏极区域延伸横跨沟道区域的整个表面。顶栅掺杂可被配置成使顶栅可在器件的整个工作期间保持耗尽。这样配置的器件的一个实施例可用于精密高电压应用。 |
申请公布号 |
CN102254951A |
申请公布日期 |
2011.11.23 |
申请号 |
CN201010505778.X |
申请日期 |
2010.09.29 |
申请人 |
英特赛尔美国股份有限公司 |
发明人 |
A·吉比 |
分类号 |
H01L29/808(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/337(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/808(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
李玲 |
主权项 |
一种半导体器件,包括:位于半导体层中的源极区域;位于所述半导体层中的漏极区域;位于所述半导体层中设置在所述源极区域和漏极区域之间的沟道区域;以及位于所述半导体层中设置在所述源极区域和漏极区域之间的顶栅,其中所述顶栅横跨从所述源极区域向所述漏极区域的整个范围覆盖所述沟道区域,且适合于在器件工作期间完全耗尽。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |