发明名称 | 一种SU-8胶微力传感器的制作方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种SU-8胶微力传感器的制作方法,属于微机电系统技术领域中的微传感器。其特征包括以下步骤:采用硅作为衬底,Omnicoat胶为粘结层和牺牲层,第一次曝光显影制作出SU-8胶结构体,然后进行溅射,第二次曝光显影制作出正胶掩模,来腐蚀金属层,最后再进行释放。制作出来的传感器通过两个电极与外围电路连接成为惠斯顿电桥,将电阻变化量转换为电压变化量,以此来测量作用力的大小。本发明选择的光刻胶为SU-8胶,此材料的弹性模量小,使得其性能和半导体硅材料的微力传感器相当,而且具有良好的生物兼容性,工艺步骤简单,加工成本较低,加工周期短,可批量生产。 | ||
申请公布号 | CN102249181A | 申请公布日期 | 2011.11.23 |
申请号 | CN201110075587.9 | 申请日期 | 2011.03.28 |
申请人 | 大连理工大学 | 发明人 | 褚金奎;陈兆鹏;张然 |
分类号 | B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人 | 梅洪玉 |
主权项 | 一种SU 8胶微力传感器的制作方法,其特征包括以下步骤:(1)第一次涂胶:在硅片上生长一层氧化层,然后旋涂一层Omnicoat胶,所述的硅片为单晶硅片或多晶硅片,可以用玻璃代替硅片与氧化层作为衬底;(2)第二次涂胶:在Omnicoat胶上旋涂一层SU 8胶;(3)第一次曝光、显影:采用紫外线曝光,实现图形从掩模板A到SU 8胶上的转移,然后用SU 8胶专用显影液对曝光后的SU 8胶进行显影,得到SU 8胶结构体;(4)溅射:在SU 8胶结构体上溅射一层金属;(5)第三次涂胶:在铜层上旋涂一层正胶;(6)第二次曝光、显影:采用紫外线曝光,实现图形从掩模板B到正胶上的转移,然后用正胶显影液对曝光后的正胶进行显影,得到正胶结构体;(7)腐蚀、释放:以正胶结构体为掩模,用硝酸溶液对金属铜层进行腐蚀,得到电极和压阻结构层;采用丙酮溶液腐蚀掉Omnicoat胶和正胶结构体。 | ||
地址 | 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号 |