发明名称 提供有配线插槽的芯片元件的制造方法
摘要 本发明公开了一种提供有配线插槽的芯片元件的制造方法,涉及由形成在晶片(20)上的器件(22)制造提供有槽(14)的芯片元件(10)的方法。该方法的步骤包括在晶片(20)上沉积牺牲膜(26)以使每个器件(22)的中心部分暴露并且覆盖该器件的边缘,在该器件的边缘处要形成槽;在牺牲膜上施加模子(28);将可硬化材料(30)注入模子中;将该可硬化材料硬化;在器件之间切割晶片;以及去除牺牲层。
申请公布号 CN102254868A 申请公布日期 2011.11.23
申请号 CN201110132957.8 申请日期 2011.05.18
申请人 原子能和代替能源委员会 发明人 让.布龙;多米尼克.维卡德
分类号 H01L21/98(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I 主分类号 H01L21/98(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 彭久云
主权项 一种由形成在晶片(20)上的器件(22)制造提供有槽(14)的芯片元件(10)的方法,其特征在于包括下面的步骤:在所述晶片(20)上沉积牺牲膜(26),以使每个所述器件(22)的中心部分暴露并且覆盖所述器件的边缘,在所述器件的边缘处要形成所述槽;在所述牺牲膜上施加模子(28);将可硬化材料(30)注入所述模子中;将所述可硬化材料硬化;在所述器件之间切割晶片;以及去除所述牺牲膜。
地址 法国巴黎