发明名称 涂层设备及涂层方法
摘要
申请公布号 TWI352626 申请公布日期 2011.11.21
申请号 TW094109044 申请日期 2005.03.24
申请人 富士軟片股份有限公司 日本 发明人 时政泰彦;逵昭男;片桐良伸
分类号 B05C5/02;B05D1/26 主分类号 B05C5/02
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种涂层设备,用于将涂层溶液涂布于料片上而形成涂层,其包含有:一藉由研磨一体成型之材料而获得的安装架;及一由该安装架所支撑之模头,其中于该模头之模唇间释出该涂层溶液,其中该等模唇之一者系设置于输送方向中该等唇模之另一者的下游侧且被形成具有全长之笔直性,以使该位于下游侧之该一个模唇之表面的非均匀度在涂层之宽度方向最多为5μm,且使该安装架对于该模头与该模头对于该安装架之每个接触面均形成具有全长之笔直性,以使每个表面之非均匀度在涂层宽度方向最多为5μm。
地址 日本