发明名称 发光装置及包含其之照明装置
摘要
申请公布号 TWI352795 申请公布日期 2011.11.21
申请号 TW097129892 申请日期 2008.08.06
申请人 夏普股份有限公司 日本;恩普樂股份有限公司 日本 发明人 小久保文雄;山口昌男
分类号 F21V5/00;G02F1/1335;F21Y101/02 主分类号 F21V5/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼;林宗宏 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种发光装置,其系包含发光元件与控制由发光元件出射之光之光束控制构件,其特征在于:上述光束控制构件包含由上述发光元件出射之光入射于光束控制构件之光入射面、及入射于上述光入射面之光由光束控制构件出射之光出射面;上述光入射面对上述发光装置之基准光轴具有轴对称之凹曲面部分;以上述基准光轴与上述发光元件之发光面之交点为基准点时,设连结上述光入射面上之任意点与上述基准点之直线与上述基准光轴形成之角为α1,上述光入射面上之任意点与上述基准点之距离为R1,至少在α1<π/3之范围中,随着α1之增加,R1会单调地减少;上述光出射面系对上述基准光轴具有轴对称之凸曲面部分,且在包含与上述基准光轴之交点之部分,具有连续于上述凸曲面部分之凹部之形状;设连结上述光出射面上之任意点与上述基准点之直线与上述基准光轴形成之角为α2,上述光出射面上之任意点与上述基准点之距离为R2,至少在α2<π/3之范围中,随着α2之增加,R2会单调地增加;设构成上述光束控制构件之材料之折射率为n,对上述α2之增加部分△α2之R2之增加部分△R2除以R2△α2之值△R2/(R2△α2)为A2,则A2为小于1/。
地址 日本