发明名称 |
具有减少条纹之研磨垫之制法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI352643 |
申请公布日期 |
2011.11.21 |
申请号 |
TW094131772 |
申请日期 |
2005.09.15 |
申请人 |
羅門哈斯電子材料CMP控股公司 美國 |
发明人 |
可塔斯 乔瑟夫P;雷菲顿 艾伦E;诺顿 卡里 伊尔;诺菲伯尔 沙摩尔J;罗伯森 莫空W;赛肯 艾伦H |
分类号 |
B24B37/00;B24D18/00;C08J5/14;C08L101/00 |
主分类号 |
B24B37/00 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼 |
主权项 |
一种化学机械研磨垫之制法,包括提供备有聚合物材料之储槽;提供备有具有初始体密度之微球之储存料斗,其中该储存料斗进一步包括设在强制送风系统上之多孔膜;经由气体输入管线使流体化气体源连接于该强制送风系统;藉由将气体馈入该强制送风系统中而使该微球流体化并减少该初始体密度;提供输送系统以将该聚合物材料及该微球输送至混合器;形成该聚合物材料与该微球之混合物;将该混合物倒入模具中以形成模制产物;以及将该模制产物切割成该研磨垫。 |
地址 |
美国 |