发明名称 一种镀层金属件局部激光发黑的加工方法
摘要 本发明公开了一种运用于光学组件封装的经过局部激光发黑处理的镀层金属件的加工方法,该方法依序以如下步骤进行:镀层金属件准备-激光处理-清洗。本发明借助高能激光所形成熔池内特殊的物理冶金和化学冶金效应,在空气条件下熔池中反应直接生成黑色氧化物或金属间化合物覆盖层,这种覆盖层可由基材淬火相变或基材与镀层氧化生成。该加工方法可根据组件内部结构设置发黑区域,处理区域受电脑控制,几何形状随意,不仅可以精确控制发黑区域,不影响正常镀层区,而且操作简单灵活,实现了在同一部件上不同区域不同反射率的控制。
申请公布号 CN102242334A 申请公布日期 2011.11.16
申请号 CN201110188073.4 申请日期 2011.07.06
申请人 中国科学院上海技术物理研究所 发明人 莫德锋;刘大福
分类号 C23C8/04(2006.01)I;C23C8/10(2006.01)I 主分类号 C23C8/04(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 郭英
主权项 一种镀层金属件局部激光发黑的加工方法,其特征在于包括以下步骤:①镀层金属件准备:对金属件常规机加工和整体电镀处理;②激光处理:首先将镀层金属件固定于激光工作台上,由CAD图形处理软件设定发黑区域;再选定合适的激光参数后发黑处理,选用波长1064nm、光斑直径0.05mm的红外激光,激光能量为3 10W,离焦量为2 5mm,激光扫描速度为10 600mm/s,激光频率为2000 50000Hz,脉冲宽度为4 40μs;当一次发黑效果不佳时,可增加发黑处理次数,以改善发黑效果;③清洗:金属部件局部发黑完成以后需酒精擦拭或酒精超声清洗。
地址 200083 上海市虹口区玉田路500号