发明名称 |
APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板 |
摘要 |
APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板,所述的掩膜板包括玻璃基板及镀膜层,玻璃基板下表面镀膜,玻璃基板镀膜面上光刻至少3个成像小孔,任意两个成像小孔之间x方向距离、y方向距离中至少一个方向距离差异不小于20个像素,成像小孔方形区域边界边长不超过d单位mm,d=L-2htanα;其中,L为APS太阳敏感器中的图像传感器有效像平面边长;h为掩膜板到所述的图像传感器像平面的距离;α为APS太阳敏感器的视场角。本发明采用多孔阵中孔间特征独立,可快速识别被污染小孔,保证产品具有高的数据更新率,适于工程应用。 |
申请公布号 |
CN101726994B |
申请公布日期 |
2011.11.16 |
申请号 |
CN200910237338.8 |
申请日期 |
2009.11.10 |
申请人 |
北京控制工程研究所 |
发明人 |
崔坚;张建福;余成武;莫亚男;王立;刘江 |
分类号 |
G03F1/14(2006.01)I;G01C21/02(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 |
中国航天科技专利中心 11009 |
代理人 |
安丽 |
主权项 |
APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板,其特征在于:所述的掩膜板包括玻璃基板及镀膜层,玻璃基板下表面镀膜,玻璃基板镀膜面上光刻至少3个成像小孔,成像小孔在x方向每行只有一个,任意两个成像小孔之间x方向距离、y方向距离中至少一个方向距离差异不小于20个像素,成像小孔方形区域边界边长不超过d,d的单位为mm,d=L‑2htanα;其中,L为APS太阳敏感器中的图像传感器有效像平面边长;h为掩膜板到所述的图像传感器像平面的距离;α为APS太阳敏感器的视场角。 |
地址 |
100080 北京市海淀区北京2729信箱 |