发明名称 APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板
摘要 APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板,所述的掩膜板包括玻璃基板及镀膜层,玻璃基板下表面镀膜,玻璃基板镀膜面上光刻至少3个成像小孔,任意两个成像小孔之间x方向距离、y方向距离中至少一个方向距离差异不小于20个像素,成像小孔方形区域边界边长不超过d单位mm,d=L-2htanα;其中,L为APS太阳敏感器中的图像传感器有效像平面边长;h为掩膜板到所述的图像传感器像平面的距离;α为APS太阳敏感器的视场角。本发明采用多孔阵中孔间特征独立,可快速识别被污染小孔,保证产品具有高的数据更新率,适于工程应用。
申请公布号 CN101726994B 申请公布日期 2011.11.16
申请号 CN200910237338.8 申请日期 2009.11.10
申请人 北京控制工程研究所 发明人 崔坚;张建福;余成武;莫亚男;王立;刘江
分类号 G03F1/14(2006.01)I;G01C21/02(2006.01)I 主分类号 G03F1/14(2006.01)I
代理机构 中国航天科技专利中心 11009 代理人 安丽
主权项 APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板,其特征在于:所述的掩膜板包括玻璃基板及镀膜层,玻璃基板下表面镀膜,玻璃基板镀膜面上光刻至少3个成像小孔,成像小孔在x方向每行只有一个,任意两个成像小孔之间x方向距离、y方向距离中至少一个方向距离差异不小于20个像素,成像小孔方形区域边界边长不超过d,d的单位为mm,d=L‑2htanα;其中,L为APS太阳敏感器中的图像传感器有效像平面边长;h为掩膜板到所述的图像传感器像平面的距离;α为APS太阳敏感器的视场角。
地址 100080 北京市海淀区北京2729信箱
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