发明名称 |
一种调节SOI-NMOS器件背栅阈值电压的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种调节SOI-NMOS器件背栅阈值电压的方法。所述方法包括提高背栅阈值电压和降低背栅阈值电压;提高背栅阈值电压具体包括:将SOI-NMOS器件的栅极、漏极、源极均接地电位,将SOI-NMOS器件的背栅极接绝对值大于80V的正直流电压,并持续10秒以上的时间;降低背栅阈值电压具体包括:将SOI-NMOS器件的栅极、漏极、源极均接地电位,将SOI-NMOS器件的背栅极接绝对值大于80V的负直流电压,并持续10秒以上的时间。本发明调节了SOI-NMOS器件的背栅沟道开启的阈值电压,能够实现SOI-NMOS器件背栅阈值电压的增加和关态漏电流的减小。 |
申请公布号 |
CN102244008A |
申请公布日期 |
2011.11.16 |
申请号 |
CN201110209296.4 |
申请日期 |
2011.07.25 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
梅博;毕津顺;韩郑生 |
分类号 |
H01L21/336(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/336(2006.01)I |
代理机构 |
北京市德权律师事务所 11302 |
代理人 |
王建国 |
主权项 |
一种调节SOI‑NMOS器件背栅阈值电压的方法,其特征在于,包括提高背栅阈值电压和降低背栅阈值电压;所述提高背栅阈值电压具体包括:将SOI‑NMOS器件的栅极、漏极、源极均接地电位,将SOI‑NMOS器件的背栅极接绝对值大于80V的正直流电压,并持续10秒以上的时间;所述降低背栅阈值电压具体包括:将SOI‑NMOS器件的栅极、漏极、源极均接地电位,将SOI‑NMOS器件的背栅极接绝对值大于80V的负直流电压,并持续10秒以上的时间。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所 |