发明名称 |
纳米硅薄膜晶体管压力传感器 |
摘要 |
纳米硅薄膜晶体管压力传感器,属于传感器技术领域。它解决了现有压力传感器存在零点漂移的问题。它由第一纳米硅薄膜晶体管、第二纳米硅薄膜晶体管、第三纳米硅薄膜晶体管、第四纳米硅薄膜晶体管和单晶硅衬底组成,第一纳米硅薄膜晶体管的漏极连接电源VDD,第四纳米硅薄膜晶体管的源极接地GND;第二纳米硅薄膜晶体管的源极引出端作为第一输出电压端VOUT1,第一纳米硅薄膜晶体管的源极引出端作为第二输出电压端VOUT2;四个纳米硅薄膜晶体管均设置在单晶硅衬底上,单晶硅衬底的背面为C型硅杯结构,四个纳米硅薄膜晶体管沟道电阻构成惠斯通电桥结构。本发明用于压力检测。 |
申请公布号 |
CN102243126A |
申请公布日期 |
2011.11.16 |
申请号 |
CN201110093983.4 |
申请日期 |
2011.04.14 |
申请人 |
黑龙江大学 |
发明人 |
赵晓锋;温殿忠;庄萃萃;李玥 |
分类号 |
G01L9/06(2006.01)I;B82Y15/00(2011.01)I |
主分类号 |
G01L9/06(2006.01)I |
代理机构 |
哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 |
代理人 |
牟永林 |
主权项 |
一种纳米硅薄膜晶体管压力传感器,其特征在于:它由第一纳米硅薄膜晶体管(M1)、第二纳米硅薄膜晶体管(M2)、第三纳米硅薄膜晶体管(M3)、第四纳米硅薄膜晶体管(M4)和单晶硅衬底(1)组成,第一纳米硅薄膜晶体管(M1)的源极连接第四纳米硅薄膜晶体管(M4)的漏极,第一纳米硅薄膜晶体管(M1)的漏极连接第二纳米硅薄膜晶体管(M2)的漏极,第二纳米硅薄膜晶体管(M2)的源极连接第三纳米硅薄膜晶体管(M3)的漏极,第三纳米硅薄膜晶体管(M3)的源极连接第四纳米硅薄膜晶体管(M4)的源极;第一纳米硅薄膜晶体管(M1)的漏极连接电源VDD,第四纳米硅薄膜晶体管(M4)的源极接地GND;第二纳米硅薄膜晶体管(M2)的源极引出端作为第一输出电压端VOUT1,第一纳米硅薄膜晶体管(M1)的源极引出端作为第二输出电压端VOUT2;四个纳米硅薄膜晶体管均设置在单晶硅衬底(1)上,单晶硅衬底(1)的背面为C型硅杯结构,四个纳米硅薄膜晶体管沟道电阻构成惠斯通电桥结构。 |
地址 |
150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路74号 |