发明名称 以亚甲基二膦酸为主配位剂的碱性无氰镀铜电镀液
摘要 以亚甲基二膦酸为主配位剂的碱性镀铜电镀液,涉及无氰电镀领域,镀液组成主要有:亚甲基二膦酸(MDP)浓度30-100克/升,二价铜离子浓度3-25克/升,碳酸根离子浓度10-80克/升,用氢氧化钠或氢氧化钾调节溶液pH至7.5~13.5。本发明镀液配方简单,无氰化物污染,电镀过程中产生的浓差极化小,镀液稳定性好,允许的电流密度范围广,可在铁基体、锌或锌合金基体、浸锌后的铝上直接镀铜,并获得与基体结合力优异的铜镀层。
申请公布号 CN102242381A 申请公布日期 2011.11.16
申请号 CN201110179505.5 申请日期 2011.06.29
申请人 杭州阿玛尔科技有限公司 发明人 姜力强;郑精武;乔梁;王鑫;蔡伟;孙莉
分类号 C25D3/38(2006.01)I 主分类号 C25D3/38(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种以亚甲基二膦酸为主配位剂的碱性无氰镀铜用的电镀液,其特征在于该电镀液主要含有:亚甲基二膦酸(MDP)浓度30‑100克/升(g/L),二价铜离子浓度3‑25克/升。
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