再循环用于沉积半导体层的气体的系统和方法

摘要

一种再循环系统包括处理室、回收贮藏器和混合贮藏器。处理室被构造为接收沉积在半导体层上的沉积气体。处理室具有排出沉积气体的未用部分作为排泄气体的排气装置。回收贮藏器与处理室流体连通。回收贮藏器被构造为接收并存储来自处理室的排泄气体。混合贮藏器与回收贮藏器和处理室流体连通。混合贮藏器被构造为将排泄气体与原料气体进行混合以形成再循环沉积气体。混合贮藏器向处理室提供再循环沉积气体以沉积半导体层的附加部分。

主权项

一种再循环系统，所述系统包括：处理室，用于接收沉积在半导体层上的沉积气体，所述处理室具有排出沉积气体的未用部分作为排泄气体的排气装置；回收贮藏器，与处理室流体连通，所述回收贮藏器用于接收并存储来自处理室的排泄气体；以及混合贮藏器，与回收贮藏器和处理室流体连通，所述混合贮藏器用于将排泄气体与原料气体进行混合以形成再循环沉积气体，所述混合贮藏器向处理室提供再循环沉积气体以沉积半导体层的附加部分。