发明名称 | 用于真空物理蒸汽沉积的室护罩 | ||
摘要 | 一种物理蒸汽沉积设备,包括具有侧壁的真空室、阴极、射频电源、基底支架和阳极以及护罩。阴极位于真空室的内部并被构造为包括靶体。射频电源被构造成向阴极施加功率。基底支架位于真空室的内部并与真空室的侧壁电绝缘。阳极位于真空室的内部并电连接至真空室的侧壁。护罩位于真空室的内部并电连接至真空室的侧壁,且包括环状体和从环状体延伸的多个同心环状凸起。 | ||
申请公布号 | CN102246270A | 申请公布日期 | 2011.11.16 |
申请号 | CN200980149156.3 | 申请日期 | 2009.12.08 |
申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 李有明;杰弗里·比克迈尔 |
分类号 | H01L21/203(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/203(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 朱进桂 |
主权项 | 一种物理蒸汽沉积设备,包括:真空室,所述真空室具有侧壁;阴极,所述阴极位于所述真空室内部,其中所述阴极构造为包括溅射靶体;射频电源,所述射频电源被构造为向阴极施加功率;基底支架,所述基底支架位于真空室的内部并与真空室的侧壁电绝缘;阳极,所述阳极位于真空室的内部并电连接至真空室的侧壁;和护罩,所述护罩位于真空室的内部并电连接至真空室的侧壁,其中所述护罩包括环状体和从环状体延伸的多个同心环状凸起。 | ||
地址 | 日本国东京都 |