一种易于填充的沟槽电容及其制备方法

摘要

本发明涉及一种易于填充的沟槽电容及其填充方法。所述电容包括电容衬底，位于电容衬底上的多个相互连通的沟槽，位于电容衬底的表面上的下电极，位于下电极的表面上的介质层，位于介质层的表面上的上电极，以及填充于沟槽处的填充材料，填充材料位于上电极的表面上。本发明电容具有沟槽的结构，不用借助特殊的沉积设备，填充效果满足对高可靠性器件的要求，可以应用于沟槽结构的所有需要完成填充的电容。

主权项

一种易于填充的沟槽电容，其特征在于，所述电容包括：电容衬底，位于所述电容衬底上的多个相互连通的沟槽，位于所述电容衬底的表面上的下电极，位于所述下电极的表面上的介质层，位于所述介质层的表面上的上电极，以及填充于沟槽处的填充材料，所述填充材料位于上电极的表面上。