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发明名称 METHOD FOR MEASURING DOPANT CONCENTRATION DURING PLASMA ION IMPLANTATION
摘要
申请公布号 KR20110123777(A) 申请公布日期 2011.11.15
申请号 KR20117021966 申请日期 2009.02.24
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 FOAD MAJEED A.;LI SHIJIAN
分类号 H01L21/66;H01L21/265 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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