| 摘要 |
본 발명은 모스-아이 구조를 이용한 태양전지의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 더욱 상세하게는 스스로 정렬된 실리카 구면 모노 층(Silica Sphere Mono-Layer)을 이용한 반응성 이온 에칭(RIE) 텍스쳐링을 적용하여 반응성 이온 에칭 텍스쳐링과 동등 수준의 반사율을 얻을 수 있고, 텍스쳐링(Texturing) 전에 형성된 전면 전극이 반응성 이온 에칭 시행 중에 마스크 역할을 하므로 전면 전극과 전극 아래의 고농도 에미터(Emitter)는 에칭이 되지 않고 전극이 없는 부분만 에칭이 되어 저농도 에미터를 형성하여 선택적인 에미터가 만들어짐으로써, 한 번의 확산(Diffusion)공정과 한 번의 텍스쳐링 공정으로 표면 텍스쳐링과 선택적인 에미터의 제작을 동시에 구현하여 공정을 간소화할 수 있으며, 전면 전극이 텍스쳐링 되지 않은 웨이퍼 표면에 형성됨으로써, 텍스쳐링된 표면에 전극을 형성하는 방법에 비해 균일하게 형성되고, 모스-아이(Moth-Eye) 구조를 적용함으로써, 반응성 이온 에칭 텍스쳐링을 실시한 웨이퍼와 동등 수준의 반사율을 얻을 수 있음은 물론 반응성 이온 에칭 텍스쳐링으로 인한 후 공정 영향을 최소화할 수 있으며, 에미터 층과 전면 전극과의 접촉 저항 감소는 물론 전면 반사율 감소로 인한 빛 흡수 효율을 향상시킬 수 있고, 스크린 프린팅 공정에서 발생되는 Needle Tip의 부러짐 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다. |
