发明名称 EUV-Kollektor
摘要 <p>Ein Kollektor (15) dient zur Überführung einer Emission einer EUV-Strahlungsquelle (3) in einen Haupt-Brennfleck (23). Der Kollektor (15) hat zumindest eine Kollektor-Untereinheit (24) mit mindestens einem Spiegel (251 bis 254) für streifenden Einfall. Dieser überführt EUV-Strahlung (14) von der Strahlungsquelle (3) hin zu einem Brennfleck (23). Mindestens ein Ellipsoid-Spiegel (28) mit ellipsoidaler Spiegelfläche (29) des Kollektors (15) wird mit einem Einfallswinkel oberhalb eines Grenzwinkels für streifenden Einfall beaufschlagt. Im Strahlengang eines von der EUV-Strahlungsquelle (3) zwischen einer Position der EUV-Strahlungsquelle (3) und dem Brennfleck (23) ist höchstens eine einzige Kollektor-Untereinheit (24) angeordnet. Bei einer weiteren Ausgestaltung des EUV-Kollektors hat eine der Kollektor-Untereinheiten mindestens eine Spiegelschale für streifenden Einfall, deren Außenwand zur Reflexion der EUV-Strahlung genutzt wird. Eine weitere der Kollektor-Untereinheiten hat mindestens eine Spiegelschale für streifenden Einfall, deren Innenwand zur Reflexion der EUV-Strahlung genutzt wird. Es resultiert ein EUV-Kollektor, bei dem bei gegebenem konstruktivem Aufwand der erfassbare Raumwinkel der EUV-Strahlungsquelle optimal gestaltet ist.</p>
申请公布号 DE102010028655(A1) 申请公布日期 2011.11.10
申请号 DE20101028655 申请日期 2010.05.06
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 MANN, HANS-JUERGEN;SINGER, WOLFGANG
分类号 G02B17/06;G02B5/08;G02B5/10;G02B27/09;G03F7/20 主分类号 G02B17/06
代理机构 代理人
主权项
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