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发明名称
Aberration measurement mask and the method for aberration measurement using the same
摘要
<p>본 발명의 수차 측정 마스크는, 기판과, 기판 상에 형성된 상기 기판의 일 측면을 기준으로 방사형으로 뻗어있는 수차 측정용 패턴을 포함한다.</p>
申请公布号
KR101082095(B1)
申请公布日期
2011.11.10
申请号
KR20070141034
申请日期
2007.12.28
申请人
发明人
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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