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发明名称 Method for depositing photoresist
摘要 <p>본 발명에 따른 포토레지스트 도포방법은, 기판 상에 식각대상막을 형성하는 단계와 식각대상막 상에 바이너리 자기조립막을 형성하는 단계와 바이너리 자기조립막 위에 포토레지스트를 도포하는 단계를 포함한다</p>
申请公布号 KR101082094(B1) 申请公布日期 2011.11.10
申请号 KR20070141030 申请日期 2007.12.28
申请人 发明人
分类号 G03F7/16;H01L21/027 主分类号 G03F7/16
代理机构 代理人
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