发明名称 制造衬底的方法
摘要 一种制造衬底的方法包括在衬底上形成隔开第一特征及隔开第二特征。所述第一特征及第二特征相互交替且相对于彼此隔开。在横向修整所述隔开第二特征的宽度的同时,将所述隔开第二特征的宽度横向修整到比对所述隔开第一特征的宽度的任何横向修整更大的程度。在对所述第二特征的横向修整之后,将隔片形成于所述隔开第一特征的侧壁上及所述隔开第二特征的侧壁上。所述隔片具有与所述隔开第一特征的组合物不同且与所述隔开第二特征的组合物不同的某组合物。在形成所述隔片之后,从所述衬底移除所述隔开第一特征及所述隔开第二特征。经由包含所述隔片的掩模图案处理所述衬底。还揭示其它实施例。
申请公布号 CN102239539A 申请公布日期 2011.11.09
申请号 CN200980148546.9 申请日期 2009.11.11
申请人 美光科技公司 发明人 斯科特·西里斯;古尔特杰·S·桑胡;安东·德维利耶
分类号 H01L21/027(2006.01)I 主分类号 H01L21/027(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 宋献涛
主权项 一种制造衬底的方法,其包含:在衬底上形成隔开第一特征及隔开第二特征,所述第一特征及第二特征相互交替且相对于彼此隔开;在横向修整所述隔开第二特征的宽度的同时,横向修整所述隔开第二特征的宽度到比对所述隔开第一特征的宽度的任何横向修整更大的程度;在所述横向修整之后,在所述隔开第一特征的侧壁上及所述隔开第二特征的侧壁上形成隔片,所述隔片具有与所述隔开第一特征的组合物不同且与所述隔开第二特征的组合物不同的某组合物;在形成所述隔片之后,从所述衬底移除所述隔开第一特征及所述隔开第二特征;及在所述从所述衬底移除所述隔开第一特征及隔开第二特征之后,经由包含所述隔片的掩模图案处理所述衬底。
地址 美国爱达荷州