一种用于生成材料薄膜的源装置

摘要

一种用于生成材料薄膜的源装置，其特征在于该源装置包括阳极外屏蔽筒、阳极内屏蔽筒、内阴极筒、外阴极筒和磁场发生装置；其中磁场发生装置为环状分布，置于内阴极筒外圆一侧；内阴极筒作为溅射靶，内阴极筒内部作为基片工件的处理空间。本实用新型将内阴极筒作为溅射靶，基片工件在内阴极筒内部进行溅射沉积，粒子在轴线处的密度最大；达到基片工件表面获得的沉积粒子和能量的连续性，提高薄膜的生长品质，并使薄膜的生长得到很好的控制。

主权项

一种用于生成材料薄膜的源装置，其特征在于该源装置包括阳极外屏蔽筒、阳极内屏蔽筒、内阴极筒、外阴极筒和磁场发生装置；其中磁场发生装置为环状分布，置于内阴极筒外圆一侧；内阴极筒作为溅射靶，内阴极筒内部作为基片工件的处理空间。