发明名称 |
确定光刻机的最佳焦距的方法 |
摘要 |
本发明提供一种确定光刻机的最佳焦距的方法,包括如下步骤:提供具有测试标记的掩膜板,所述测试标记包括不对称的且具有尖锐结构的第二测试标记;将所述测试标记转移到基底上;测试不同焦距下光刻机的套刻偏移量值;找出最小的套刻偏移量值,则其对应的焦距即为光刻机的最佳焦距。本发明通过将测试标记设计为尖锐的不对称结构,仅需采用套刻测试设备在不同焦距下检测测试标记的套刻偏移量值,然后比较找出最小的焦距偏移量,就可确定光刻机的最佳焦距,步骤简单,可较大幅度提高光刻机的最佳焦距检测效率;而且本发明的测试标记采用了尖锐的不对称结构,光刻机对此比较灵敏,可更好地提高焦距测试结果的准确率。 |
申请公布号 |
CN102236262A |
申请公布日期 |
2011.11.09 |
申请号 |
CN201010170097.2 |
申请日期 |
2010.05.07 |
申请人 |
无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
发明人 |
黄玮 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种确定光刻机的最佳焦距的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:提供具有测试标记的掩膜板,所述测试标记包括不对称的且具有尖锐结构的第二测试标记;将所述测试标记转移到基底上;测试不同焦距下光刻机的套刻偏移量值;找出最小的套刻偏移量值,则其对应的焦距即为光刻机的最佳焦距。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 |