发明名称 PLASMA DOPING APPARATUS
摘要 <p>본 발명에 따른 플라즈마 도핑장치는, 챔버 내에 설치되어 기판이 탑재되는 기판전극과, 기판전극의 설치되며 모니터링회로와 전기적으로 접속되는 패러데이컵을 포함하고, 패러데이컵은 플라즈마로부터 유입되는 이온이 입사되며 모니터링회로와 전기적으로 접속되는 유효부와, 유효부로 입사된 후 반사되는 이온을 포집하는 포집부를 포함하여 구성된다. 이에 따라, 유효부로부터 반사되는 이온이 유효부로 다시 입사되는 것을 방지할 수 있으므로, 패러데이컵으로 실질적으로 유입되는 이온의 양을 정확하게 측정할 수 있으며, 이로부터 기판에 주입되는 이온의 주입량을 정확하게 측정할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101081355(B1) 申请公布日期 2011.11.09
申请号 KR20090040956 申请日期 2009.05.11
申请人 发明人
分类号 H01L21/265 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
地址