发明名称 | 用于修复半色调掩模的方法和系统 | ||
摘要 | 本公开内容涉及一种用于修复半色调掩模的方法和系统,其可通过执行一个修复过程来确保修复部分均匀的透过率,且即便是在表层膜形成之后,也能提供除去缺陷这一功能,所述修复过程包括:使用激光束从半色调掩模中除去缺陷;在缺陷区域上有效地形成阻挡膜;调节阻挡膜的厚度;以及实时地调节透过率。 | ||
申请公布号 | CN102236248A | 申请公布日期 | 2011.11.09 |
申请号 | CN201010153020.4 | 申请日期 | 2010.04.20 |
申请人 | 株式会社COWINDST | 发明人 | 郑钟甲;金一镐 |
分类号 | G03F1/14(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人 | 杨勇;郑建晖 |
主权项 | 一种半色调掩模修复的方法,其通过向原材料照射激光束而在缺陷部分上沉积该原材料来修复半色调掩模上的半色调部的缺陷部分。 | ||
地址 | 韩国仁川 |