用于薄膜太阳能电池制造的磁控溅镀机及溅镀方法

摘要

本发明公开了一种用于薄膜太阳能电池制造的磁控溅镀机及溅镀方法，该磁控溅镀机包含一具有溅镀空间的腔体以及一设于腔体的溅镀空间内的基板与靶材，靶材用以溅镀基板，并于靶材背面侧设有至少一磁性元件，藉由磁性元件的磁场作用，使靶材被撞击出来的溅镀原子沉积于基板表面上，而形成一高均匀度及高品质的镀膜；本发明还提供一种用于薄膜太阳能电池制造的磁控溅镀方法。

主权项

一种用于薄膜太阳能电池制造的磁控溅镀机，所述的磁控溅镀机包含：一具有溅镀空间的腔体以及一设于所述的腔体的溅镀空间内的基板与靶材，所述的靶材用以溅镀所述的基板，其特征在于：在所述的靶材背面侧设有至少一磁性元件，由所述的磁性元件的磁场作用，使所述的靶材被撞击出来的溅镀原子沉积于所述的基板表面上，而形成一高均匀度及高品质的镀膜。