发明名称 |
用于控制以及减少NO<sub>x</sub>排放物的系统和方法 |
摘要 |
本发明涉及用于控制以及减少NOx排放物的系统和方法。提供了一种用于减少NOx排放物的系统(30)。该系统(30)包括构造为产生包括NOx的气流的气体产生源,以及定位在该气体产生源下游的氧化催化器(16)。该氧化催化器(16)构造为氧化该气流中的NO气体分子以产生高阶NxOy分子。去除系统定位在该氧化催化器(16)下游,且被构造为通过溶剂吸收或反应从该气流中去除高阶NxOy分子。该系统(30)还包括定位在该氧化催化器(16)下游的辅助NOx削减系统(32),其中该辅助NOx削减系统(32)构造为将反应剂注入到该气流中,该反应剂配置为与存在于该气流中的NOx分子反应。 |
申请公布号 |
CN102233239A |
申请公布日期 |
2011.11.09 |
申请号 |
CN201110113814.2 |
申请日期 |
2011.04.21 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
G·O·克雷默 |
分类号 |
B01D53/86(2006.01)I;B01D53/90(2006.01)I;B01D53/56(2006.01)I |
主分类号 |
B01D53/86(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
严志军;谭祐祥 |
主权项 |
一种用于减少NOx排放物的系统(30),包括:构造为产生包括NOx的气流的气体产生源;定位在所述气体产生源下游的氧化催化器(16),所述氧化催化器(16)构造为氧化所述气流中的NO气体分子,以产生高阶NxOy分子;定位在所述氧化催化器(16)下游、构造为通过溶剂吸收或反应从所述气流中去除高阶NxOy分子的去除系统;以及定位在所述氧化催化器下游的辅助NOx削减系统(32),所述辅助NOx削减系统(32)构造为将反应剂注入所述气流中,所述反应剂配置为与存在于所述气流中的NOx分子反应。 |
地址 |
美国纽约州 |