发明名称 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统
摘要 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统,属于半导体制造装备技术领域。本发明含有运行于预处理工位的硅片台和运行于曝光工位的硅片台;在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元,所述的H型驱动单元由双侧X向直线电机以及Y向直线电机组成,用于驱动硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动。本发明的技术要点是在基台中间设置有两个过渡承接装置,过渡承接装置上安装有摩擦轮,当H型驱动单元与其精确对准时,靠摩擦轮的摩擦力,实现硅片台从预处理工位过渡到曝光工位。有效避免了导轨精密对接的问题,降低了系统结构的复杂性。
申请公布号 CN101231471B 申请公布日期 2011.11.09
申请号 CN200710303712.0 申请日期 2007.12.21
申请人 清华大学 发明人 朱煜;张鸣;汪劲松;徐登峰;尹文生;胡金春;杨开明;李广;闵伟;段广洪
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统,该系统含有运行于预处理工位(18)的硅片台和运行于曝光工位(19)的硅片台,所述的两个硅片台设置在一基台(11)上,并通过气浮轴承悬浮在基台表面,在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元(3),所述的H型驱动单元(3)由双侧X向直线电机(5)以及Y向直线电机(7)组成,用于驱动所述硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动,其特征在于:在位于预处理工位和曝光工位之间的基台上设有两个过渡承接装置(15),将调平、调焦及对准的曝光准备工作转移至预处理工位的硅片台上,且与曝光工位的硅片台同时独立工作;所述的过渡承接装置包括摩擦轮(16)和用于驱动摩擦轮旋转的电机,当H型驱动单元与过渡承接装置精确对准时,靠旋转摩擦轮的摩擦力,实现硅片台从预处理工位过渡到曝光工位。
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