基板清洗装置及基板清洗方法

摘要

本发明提供一种既能够抑制对基板造成损伤又能够高效率地去除基板表面上的颗粒的基板清洗装置及方法。在振动施加位置对基板表面(Wf)上的液膜(LF)施加超声波振动。而且，与此同时，在与该振动施加位置不同的液滴滴下位置，向液膜供给清洗液的液滴，以此对液膜施加与超声波振动不同的波动。由此，与仅施加超声波振动的情况相比，能够显著地去除附着于基板表面(Wf)上的颗粒。因此，即使以不使基板(W)受到损伤的程度来设定超声波振动的输出功率及频率，也能够通过波动有效地去除颗粒，从而良好地清洗基板表面(Wf)。

主权项

一种基板清洗装置，其特征在于，具有：超声波施加单元，其对覆盖基板表面的第一清洗液的液膜施加超声波振动；供给单元，其在第二位置对所述液膜供给第二清洗液，所述第二位置位于所述超声波振动在所述液膜中向基板表面传播的路径上，且不同于施加所述超声波振动的第一位置；控制单元，其使所述超声波施加单元动作，对所述液膜施加超声波振动，并且通过所述供给单元向所述液膜供给第二清洗液，由此对所述液膜施加不同于所述超声波振动的附加振动。